[发明专利]测量用于基片的气氛输送和存储的运输箱的污染物的方法和系统有效
| 申请号： | 201680063515.3 | 申请日： | 2016-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN108352345B | 公开（公告）日： | 2022-01-25 |
| 发明（设计）人： | O·勒-巴里耶;J·布努阿尔 | 申请（专利权）人： | 普发真空公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/673 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 吴鹏;马江立 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种测量用于基片(3)的气氛输送和存储的运输箱(2)的污染物的方法，其中运输箱(2)内的至少一种气态物质的浓度由测量装置测量，所述测量装置包括至少一个气体分析仪(5，5b)和将所述至少一个气体分析仪(5，5b)连接到接口(7)的测量管线(6)，接口(7)使测量管线(6)与至少一个运输箱(2)的内部气氛连通，其特征在于，含水蒸气的气流被供给到测量装置。本发明还涉及一种测量用于基片的气氛输送和存储的运输箱的污染物的系统。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 用于 气氛 输送 存储 运输 污染物 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种测量用于基片(3)的气氛输送和存储的运输箱(2)的污染物的方法，其中通过测量装置测量运输箱(2)内的至少一种气态物质的浓度，所述测量装置包括至少一个气体分析仪(5，5b)和将所述至少一个气体分析仪(5，5b)连接到接口(7)的测量管线(6)，所述接口(7)使测量管线(6)与至少一个运输箱(2)的内部气氛连通，其特征在于，将含水蒸气的气流供给到所述测量装置。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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