[发明专利]具有废气分解器的基板处理设备及其废气处理方法有效
申请号: | 201680065212.5 | 申请日: | 2016-10-04 |
公开(公告)号: | CN108352299B | 公开(公告)日: | 2022-08-05 |
发明(设计)人: | 徐东源;金宪度;黄喆周 | 申请(专利权)人: | 周星工程股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/67;H01L21/60 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 李琳;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明公开了一种基板处理设备及废气处理方法。在根据本发明的基板处理设备和废气处理方法中,废气分解模块可以分解从处理室排出的源气体以分解源气体的配体。此外,配体和配体已被分解的源气体通过与分别供给的O |
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搜索关键词: | 具有 废气 分解 处理 设备 及其 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基板处理设备,包括:处理室,包括对基板进行处理的空间;基板支撑装置,安装在所述处理室中,所述基板设置在所述基板支撑装置上;源气体分配装置,将源气体分配到所述基板;反应气体分配装置,将反应气体分配到所述基板;源气体排气管路,引导所述处理室的源气体排出到所述处理室外部;反应气体排气管路,引导所述处理室的反应气体排出到所述处理室外部;排气泵,与所述源气体排气管路和所述反应气体排气管路中的每一者连通,以将源气体和反应气体分别排出到所述源气体排气管路和所述反应气体排气管路;以及废气分解模块,安装在所述处理室与所述排气泵之间的所述源气体排气管路中,以分解经由所述源气体排气管路流入到所述排气泵中的源气体。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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