[发明专利]基于银合金的溅射靶在审
| 申请号： | 201680065268.0 | 申请日： | 2016-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN108463573A | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | M·施洛特;C·西蒙斯;阿尔伯特·卡斯特纳;延斯·瓦格纳;乌韦·科涅兹卡 | 申请（专利权）人： | 万腾荣先进材料德国有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/18;H01J37/34;C22C5/06 |
| 代理公司： | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 张皓;李海明 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种溅射靶，其包括银合金，所述银合金包含：基于所述银合金的总重量，0.01至2重量％的选自铟、锡、锑和铋中的第一元素，和基于所述银合金总重量的0.01至2重量％的钛，并且具有不大于55μm的平均晶粒尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 银合金 溅射靶 平均晶粒 | ||
【主权项】：
1.一种溅射靶，其包含银合金，所述银合金包含：‑基于所述银合金的总重量，0.01至2重量％的选自铟、锡、锑和铋中的第一元素，和‑基于所述银合金总重量，0.01至2重量％的钛，并且‑具有不大于55μm的平均晶粒尺寸。
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