[发明专利]光学反射膜及光学反射体在审
| 申请号： | 201680065958.6 | 申请日： | 2016-10-06 |
| 公开（公告）号： | CN108351448A | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 斋藤洋一 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/26 | 分类号： | G02B5/26;B32B7/02;G02B5/28 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明为光学反射膜，其在基材上具有将具有折射率差的高折射率层和低折射率层交替地层叠而形成的光学干涉膜，将构成上述光学干涉膜的高折射率层和低折射率层中相对于上述基材最接近地配置的层作为最下层，将最远离上述基材所配置的层作为最上层，将在上述最下层与上述最上层之间所配置的各层作为中间层的情况下，通过纳米压痕法所测定的上述中间层的平均弹性模量比上述最上层的弹性模量大2GPa以上，上述最上层的膜厚为上述中间层的平均膜厚的1.2倍～7倍。 | ||
| 搜索关键词： | 最上层 配置的 中间层 基材 低折射率层 高折射率层 光学反射膜 光学干涉膜 最下层 弹性模量 弹性模量比 光学反射体 纳米压痕法 交替地层 平均膜厚 折射率差 膜厚 | ||
【主权项】：
1.一种光学反射膜，其在基材上具备将具有折射率差的高折射率层和低折射率层交替地层叠而形成的光学干涉膜，将构成所述光学干涉膜的高折射率层和低折射率层中对于所述基材最接近地配置的层作为最下层、将距所述基材最远地配置的层作为最上层、将在所述最下层与所述最上层之间所配置的各层作为中间层的情况下，通过纳米压痕法所测定的所述中间层的平均弹性模量比所述最上层的弹性模量大2GPa以上，所述最上层的膜厚为所述中间层的平均膜厚的1.2倍～7倍。
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