[发明专利]光罩架系统在审
| 申请号： | 201680071391.3 | 申请日： | 2016-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN108369370A | 公开（公告）日： | 2018-08-03 |
| 发明（设计）人： | S·库德尔;A·埃斯坎东;S·里德;G·埃尔南德斯;R·艾里什;J·瓦莱斯汀 | 申请（专利权）人： | 密克罗奇普技术公司 |
| 主分类号： | G03F1/66 | 分类号： | G03F1/66;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 沈锦华 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及半导体制造，特定来说涉及光罩架系统。本发明的教示可体现在光罩架单元中，所述光罩架单元包含具有四个立柱及多个纵横杆的框架以及四个旋转门架。所述框架可具有界定前侧及后侧的最长尺寸。所述四个旋转门架可安装到所述框架以围绕平行于所述四个立柱的相应旋转轴枢转。每一旋转门架可界定经定大小以固持光罩的多个光罩嵌套。 | ||
| 搜索关键词： | 光罩架 旋转门架 光罩 界定 立柱 嵌套 半导体制造 可安装 旋转轴 纵横杆 固持 枢转 平行 | ||
【主权项】：
1.一种光罩架单元，其包括：具有四个立柱及多个纵横杆的框架，所述框架具有界定前侧及后侧的最长尺寸；四个旋转门架，所述四个旋转门架安装到所述框架以围绕平行于所述四个立柱的相应旋转轴枢转；其中每一旋转门架界定经定大小以固持光罩的多个光罩嵌套。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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