[发明专利]曝光装置及曝光装置的控制方法、以及元件制造方法在审
| 申请号： | 201680071470.4 | 申请日： | 2016-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN108369383A | 公开（公告）日： | 2018-08-03 |
| 发明（设计）人： | 柴崎祐一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 肖靖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 曝光装置(100)具备：照射装置(30)，对靶材(W)照射电子束；载台(26)，保持靶材；载台驱动系统，包含驱动载台的电磁马达；以及控制系统，基于电子束对靶材的照射状态来控制载台驱动系统。控制系统在针对靶材的电子束的照射时与未照射时，变更对载台驱动系统的控制内容。由此，能够使用电磁马达来作为载台的驱动源，且抑制载台驱动时的靶材上的电子束的照射位置偏移。 | ||
| 搜索关键词： | 载台 电子束 曝光装置 驱动系统 照射 靶材 电磁马达 控制系统 对靶 驱动 控制内容 元件制造 照射位置 照射装置 驱动源 偏移 变更 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其具备对靶材照射带电粒子束的照射装置，所述曝光装置的特征在于，包括：载台，保持所述靶材；载台驱动系统，包含驱动所述载台的电磁马达；以及控制系统，控制所述照射装置与所述载台驱动系统，所述控制系统基于所述带电粒子束对所述靶材的照射状态，来控制所述载台驱动系统。
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