[发明专利]偏振片保护膜、其制造方法及偏振片有效

专利信息
申请号: 201680075187.9 申请日: 2016-12-01
公开(公告)号: CN108369310B 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 高木隆裕 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;C08J5/18;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 沈雪
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题在于,提供一种含有降冰片烯类树脂、不增加雾度而改良了滑动性的偏振片保护膜。另外,提供一种该偏振片保护膜的制造方法及具备该偏振片保护膜的偏振片。该偏振片包覆膜含有氢化降冰片烯类树脂和微粒,上述微粒的二次粒子的平均粒径为0.05~0.20μm的范围内,上述二次粒子的粒径的相对标准偏差为5~20%的范围内,并且,上述偏振片保护膜的表面的峰密度为1000~5000(个/mm2)的范围内。
搜索关键词: 偏振 保护膜 制造 方法
【主权项】:
1.一种偏振片保护膜,其含有降冰片烯类树脂和微粒,所述降冰片烯类树脂是氢化降冰片烯类树脂,所述微粒的二次粒子的平均粒径为0.05~0.20μm的范围内,所述二次粒子的平均粒径的相对标准偏差为5~20%的范围内,并且,所述偏振片保护膜表面的峰密度为1000~5000(个/mm2)的范围内。
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