[发明专利]铜和铜合金表面用蚀刻溶液有效
| 申请号： | 201680075357.3 | 申请日： | 2016-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN108431301B | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 法比安·米哈利克;诺贝特·吕措;加布里埃拉·施密特;约瑟夫·盖达;托马斯·许尔斯曼 | 申请（专利权）人： | 埃托特克德国有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/02 | 分类号： | C23F1/02;C23F1/18;H01L21/306;H05K3/38 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 郭国清;穆德骏 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
提供了一种铜和铜合金表面用水性蚀刻溶液及其使用方法，所述水性蚀刻溶液包含至少一种酸、至少一种适合于铜氧化的氧化剂、至少一种卤素离子源以及至少一种含有至少一种根据式(I)的聚合物部分的聚酰胺，其中每个a彼此独立地选自2和3；每个b是范围从5至10000的彼此独立的整数；每个R |
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| 搜索关键词： | 铜合金 表面 蚀刻 溶液 | ||
【主权项】：
1.一种铜和铜合金表面用水性蚀刻溶液，所述水性蚀刻溶液包含至少一种酸、至少一种适合于铜氧化的氧化剂、至少一种卤素离子源，其特征在于所述水性蚀刻溶液包含至少一种含有至少一种根据式(I)的聚合物部分的聚酰胺![]()
其中每个a彼此独立地选自2和3；每个b是范围从5至10000的彼此独立的整数；每个R1是彼此独立地选自取代或未取代的C1‑C8烷基基团的单价残基。
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