[发明专利]蒸镀掩模、其制造方法以及使用该蒸镀掩模的有机发光二极管的制造方法有效
| 申请号： | 201680079992.9 | 申请日： | 2016-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN108495947B | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 西田光志;矢野耕三;岸本克彥 | 申请（专利权）人： | 鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 汪飞亚;薛晓伟 |
| 地址： | 中国台湾新*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于在基板上形成薄膜图案所使用的蒸镀掩模，其能够防止因保持部件而引起的蒸镀物质未附着的阴的部分(蒸镀阴影)的产生，并且能够形成更高精细的薄膜图案，在隔着被保持在基板保持器的基板的状态下，能够通过磁力以与透明基板的表面密合的方式被强固地吸引保持。蒸镀掩模(1)为由与树脂薄膜层(2)的单体或树脂薄膜层(2)和大致矩形的薄板状框体的保持部件(7)来构成，以使在形成有多个贯通开口(3)的树脂薄膜层(2)上含有磁性体金属粉末(4)。在具有保持部件(7)的情况下，在保持部件(7)在树脂薄膜层(2)中形成有：包含形成多个贯通开口(3)的部分的单一的矩形开口(8)。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸镀掩模 制造 方法 以及 使用 有机 发光二极管 | ||
【主权项】：
1.一种蒸镀掩模，是用于在基板上形成薄膜图案所使用的蒸镀掩模，其特征在于，包括形成有多个贯通开口且含有磁性体金属粉末的树脂薄膜层。
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