[发明专利]制造用于极紫外线光刻的隔膜组件的方法、隔膜组件、光刻设备及器件制造方法

摘要

公开制造隔膜组件的方法。在一个布置中，堆叠结构包括平面衬底和至少一个隔膜层。所述平面衬底包括内部区、围绕所述内部区的边界区、围绕所述边界区的桥接区及围绕所述桥接区的边缘区。选择性地去除所述内部区及所述桥接区的第一部分。在去除之后的所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平面衬底的所述边界区形成；围绕所述边界的边缘区段，所述边缘区段由所述平面衬底的所述边缘区形成；所述边界与所述边缘区段之间的桥接件，所述桥接件由所述至少一个隔膜层及所述平面衬底的所述桥接区的第二部分形成。所述方法还包括通过切割或断裂所述桥接件而将所述边缘区段与所述边界分离。

主权项

1.一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，包括：提供包括平面衬底和至少一个隔膜层的堆叠结构，其中所述平面衬底包括内部区、围绕所述内部区的边界区、围绕所述边界区的桥接区及围绕所述桥接区的边缘区；选择性地去除所述内部区及所述桥接区的第一部分以提供隔膜组件，所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；保持所述隔膜的边界，所述边界是由所述平面衬底的所述边界区形成；围绕所述边界的边缘区段，所述边缘区段由所述平面衬底的所述边缘区形成；和所述边界与所述边缘区段之间的桥接件，所述桥接件由所述至少一个隔膜层及所述平面衬底的所述桥接区的第二部分形成；以及通过切割或断裂所述桥接件而将所述边缘区段与所述边界分离。