[发明专利]打印基底上的底涂含量的评估在审
| 申请号： | 201680085178.8 | 申请日： | 2016-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN109716106A | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | E·戈朗;M·什利莫维赫 | 申请（专利权）人： | 惠普印迪格公司 |
| 主分类号： | G01N21/552 | 分类号： | G01N21/552;G01N21/84 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 陈松涛;夏青 |
| 地址： | 荷兰阿姆*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 文中描述了一种用于评估打印基底上的底涂成分涂层重量的方法。所述方法包括提供带有底涂的打印基底，以及使用借助于衰减全反射(ATR)的傅里叶变换红外(FTIR)光谱法对所述带有底涂的打印基底进行光谱分析，以生成FTIR光谱。之后，识别并比较底涂成分的FTIR光谱特征当中的底涂峰以及打印基底的打印基底峰特征，以评估带有底涂的打印基底的打印基底上的底涂涂层重量。 | ||
| 搜索关键词： | 底涂 基底 打印 评估 傅里叶变换 衰减全反射 成分涂层 光谱分析 光谱法 | ||
【主权项】：
1.一种用于评估打印基底上的底涂成分涂层重量的方法，所述方法包括：提供带有底涂的打印基底，所述带有底涂的打印基底包括在其上设置了包括有机底涂成分的底涂层的有机打印基底材料；使用借助于衰减全反射(ATR)的傅里叶变换红外(FTIR)光谱法对所述带有底涂的打印基底进行光谱分析，以生成设置在所述打印基底上的所述底涂层的FTIR光谱；识别所述FTIR光谱中的作为所述有机底涂成分的特征的底涂峰；识别所述FTIR光谱中的作为所述有机打印基底材料的特征的打印基底峰；以及将所述底涂峰和所述打印基底峰进行比较，以评估所述带有底涂的打印基底的打印基底上的所述底涂成分涂层重量。
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