[发明专利]手机壳高光处理后二次氧化工艺在审
| 申请号： | 201710009615.4 | 申请日： | 2017-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN106894070A | 公开（公告）日： | 2017-06-27 |
| 发明（设计）人： | 张秀芳;纪建彪 | 申请（专利权）人： | 东台立讯精密电子技术有限公司 |
| 主分类号： | C25D11/12 | 分类号： | C25D11/12;C23F3/03;C23G1/12;C23G1/22 |
| 代理公司： | 南京苏科专利代理有限责任公司32102 | 代理人： | 陈忠辉 |
| 地址： | 224224 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 手机壳高光处理后二次氧化工艺，包括以下步骤（1）将手机壳进行脱脂除油处理；（2）进行化抛处理；（3）进行中和处理；（4）进行碱洗处理；（5）进行中和处理；（6）进行化抛处理；（7）进行中和处理；（8）进行氧化处理；所述氧化处理中，阳极氧化温度为18～20℃，阳极氧化电压为13.5～14.5V。本发明可以很好地清除手机壳高光处理之后表面容易出现的白雾、刀纹、腐蚀等不良现象，具有很好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 机壳 处理 二次 氧化 工艺 | ||
【主权项】：
手机壳高光处理后二次氧化工艺，其特征在于包括以下步骤：（1）将手机壳进行脱脂除油处理；（2）将经步骤（1）处理后的手机壳进行化抛处理；（3）将经步骤（2）处理后的手机壳进行中和处理；（4）将经步骤（3）处理后的手机壳进行碱洗处理；（5）将经步骤（4）处理后的手机壳进行中和处理；（6）将经步骤（5）处理后的手机壳进行化抛处理；（7）将经步骤（6）处理后的手机壳进行中和处理；（8）将经步骤（7）处理后的手机壳进行氧化处理，所述氧化处理中阳极氧化温度为18～20℃，阳极氧化电压为13.5～14.5V。
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