[发明专利]平坦化共用载体框架上的多个阴影掩模的设备和方法

摘要

本发明公开了一种多掩模对准系统和多掩模对准方法。在用于多掩模对准的设备和方法中，提供了包括贯通载体的孔口的载体。对于每个孔口，包括对准特征的组合的框架和阴影掩模定位在由载体支撑的间隔件上，使得组合的框架和阴影掩模的阴影掩模与孔口粗略对准。接着，每个组合的框架和阴影掩模移到与间隔件间隔开的位置，于是在控制器的控制下，对准系统单独对准每个组合的框架和阴影掩模，以将组合的框架和阴影掩模的对准特征与关联于组合的框架和阴影掩模的参考对准特征对准。每个组合的框架和阴影掩模随后返回到间隔件上的位置，此后每个组合的框架和阴影掩模固定到载体上。在实例中，可以同时对准全部的组合的框架和阴影掩模。

主权项

一种多掩模对准系统，包括：载体，其包括第一侧和第二侧以及从所述第一侧到所述第二侧延伸贯通所述载体的多个孔口，其中，每个孔口与包括对准特征的组合的框架和阴影掩模相关联，其中，所述阴影掩模经由所述框架被支撑在所述载体的所述第一侧上，并且所述阴影掩模与所述孔口对准；对准系统，其位于所述载体的所述第二侧上；控制器，其能操作地控制所述对准系统，以单独地对准每个组合的框架和阴影掩模，使得所述组合的框架和阴影掩模的所述对准特征与关联于所述组合的框架和阴影掩模的参考对准特征对准，而不是与所述载体或所述组合的框架和阴影掩模的一部分对准；以及间隔件，其位于所述载体上，并且构造成将每个组合的框架和阴影掩模支撑在所述载体的所述第一侧的表面的上方。