[发明专利]包括垂直存储器装置的集成电路装置及其制造方法

摘要

提供了一种包括垂直存储器装置的集成电路(IC)装置及其制造方法，所述IC装置包括：沟道区，在基底上延伸以穿透多条字线；位线接触焊盘，接触沟道区的上表面；位线，接触位线接触焊盘，并且沿与基底的主表面平行的方向在位线接触焊盘上延伸；共源线，部分地填充字线切割区，并且具有比沟道区的高度低的高度；共源通路接触件，在字线切割区中接触共源线的上表面。

主权项

一种集成电路装置，所述集成电路装置包括：多条字线，与基底的主表面平行地在基底上延伸，并且在垂直于所述主表面的第一方向上彼此分离；沟道区，在基底上在第一区域中延伸通过所述多条字线；位线接触焊盘，位于沟道区上，并且接触沟道区的上表面；位线，在第一区域中接触位线接触焊盘，并且沿与基底的主表面平行的第二方向在位线接触焊盘上延伸；共源线，部分地填充字线切割区，所述字线切割区在所述多条字线的一侧上沿第三方向延伸，所述第三方向与基底的主表面方向平行并且与第二方向相交，所述共源线具有比沟道区的高度低的高度；共源通路接触件，在字线切割区中接触共源线的上表面并且从共源线的上表面沿远离基底的方向延伸。