[发明专利]一种用于溅射成膜工艺的掩膜板及溅射装置有效
| 申请号： | 201710059099.6 | 申请日： | 2017-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN106756780B | 公开（公告）日： | 2019-03-05 |
| 发明（设计）人： | 田忠朋;陈一民;高雪伟;武捷;肖磊 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/50;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种用于溅射成膜工艺的掩膜板及溅射装置，涉及溅射镀膜技术领域，在溅射镀膜过程中，可减少粉尘飘落到待镀膜基板上。该掩膜板包括掩膜板本体，所述掩膜板本体具有镂空区域，所述掩膜板本体的溅射面上设置有多个微凸起。用于溅射设备中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 溅射 工艺 掩膜板 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于溅射成膜工艺的掩膜板，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体具有镂空区域，其特征在于，所述掩膜板本体的溅射面上设置有多个微凸起；所述微凸起的底部为与所述掩膜板本体接触的端部，所述微凸起的底部是封闭的。
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