[发明专利]像素限定层及其制备方法、OLED基板及其制备方法

摘要

本发明提供一种像素限定层及其制备方法、有机电致反光二极管基板及其制备方法，属于显示技术领域。本发明的像素限定层的制备方法，包括：在基底上，形成第一膜层，以及通过喷墨打印的方式形成网格状的第二膜层，且所述第一膜层位于第二膜层上；去除与所述网格状的第二膜层的镂空位置对应的所述第一膜层，并裸露出所述镂空位置处的所述第二膜层的侧边，以形成包括像素限定层的图形。在本发明的像素限定层的制备方法中，通过喷墨打印的方式直接形成位于第一膜层下方的、网格状的第二膜层，去除与网格状的第二膜层的镂空位置对应的第一膜层，以形成包括像素限定层，也即仅通过一次构图工艺就可以形成像素限定层的图形，从而简化了制备工艺。

主权项

一种像素限定层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：在基底上，形成第一膜层，以及通过喷墨打印的方式形成网格状的第二膜层，且所述第一膜层位于第二膜层上；去除与所述网格状的第二膜层的镂空位置对应的所述第一膜层，并裸露出所述镂空位置处的所述第二膜层的侧边，以形成包括像素限定层的图形；其中，所述在基底上，形成第一膜层，以及通过喷墨打印的方式形成网格状的第二膜层，且所述第一膜层位于第二膜层上的步骤，具体包括：在基底上形成第一膜层；在完成上述步骤的基底上形成，通过喷墨打印的方式形成网格状的第二膜层，且所述第二膜层下沉至所述第一膜层与所述基底之间。