[发明专利]准分子激光退火装置用基板支撑模块有效
| 申请号： | 201710080337.1 | 申请日： | 2017-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN107154368B | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 沈亨基;李基雄;金戊一;金利镐 | 申请（专利权）人： | AP系统股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京锺维联合知识产权代理有限公司 11579 | 代理人： | 罗银燕 |
| 地址： | 韩国京畿道华城市东*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及准分子激光退火装置用基板支撑模块，本发明为准分子激光退火装置用基板支撑模块，上述准分子激光退火装置用基板支撑模块包括：工作台，用于放置基板；支架，以向上下方向贯通上述工作台的方式设置，用于将基板装载于工作台上或从工作台上卸载基板；以及升降驱动部，用于使上述支架升降，上述准分子激光退火装置用基板支撑模块的特征在于，上述工作台被划分为规定区域，各个区域形成相互独立的真空吸入区域，上述真空吸入区域从上述工作台的中央部分开始依次进行真空吸入，从而从上述基板的中心部开始依次与上述工作台相接触。 | ||
| 搜索关键词： | 准分子激光 退火 装置 用基板 支撑 模块 | ||
【主权项】：
一种准分子激光退火装置用基板支撑模块，包括：工作台，用于放置基板；支架，以向上下方向贯通工作台的方式设置，用于将基板装载于工作台上或从工作台上卸载基板；以及升降驱动部，用于使上述支架升降，上述准分子激光退火装置用基板支撑模块的特征在于，上述工作台被划分为规定区域，各个区域形成相互独立的真空吸入区域，上述真空吸入区域以从上述工作台的中央部分开始依次进行真空吸入的方式形成，从而从上述基板的中心部开始依次与上述工作台相接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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