[发明专利]半导体结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201710087324.7 申请日: 2017-02-17
公开(公告)号: CN108615685A 公开(公告)日: 2018-10-02
发明(设计)人: 林柏均 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L23/10;H01L23/367;H01L23/528
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 李昕巍;郑特强
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 本公开提供了一种半导体结构及其制造方法,该半导体结构包含:一第一半导体元件;至少一传导件,位于该第一半导体元件上;一第二半导体元件,位于该第一半导体元件上;一封装件,位于该第一半导体元件上;以及一重布线层(RDL),位于该第二半导体元件与该至少一传导件上。该封装件环绕该第二半导体元件与该至少一传导件,且该封装件并未延伸至该第一半导体元件与该第二半导体元件之间的界面。
搜索关键词: 半导体元件 半导体结构 传导件 封装件 重布线层 制造 环绕 延伸
【主权项】:
1.一种半导体结构,包括:一第一半导体元件;至少一传导件,位于该第一半导体元件上;一第二半导体元件,位于该第一半导体元件上;一封装件,位于该第一半导体元件上,以及该封装件环绕该第二半导体元件与该至少一传导件;以及一重布线层,位于该第二半导体元件与该至少一传导件上。
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