[发明专利]一种中空管内壁上氧化锗薄膜的制备方法在审
申请号: | 201710094942.4 | 申请日: | 2017-02-21 |
公开(公告)号: | CN108469636A | 公开(公告)日: | 2018-08-31 |
发明(设计)人: | 陈桂竹;徐晓莹;韩慧兰 | 申请(专利权)人: | 上海市闵行第二中学 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;G02B5/08;G02B6/02 |
代理公司: | 上海远同律师事务所 31307 | 代理人: | 张坚 |
地址: | 200240*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种中空管内壁上氧化锗薄膜的制备方法,其特征在于:采用液相沉积法制备生长于中空管内壁的氧化锗薄膜,所述制备方法包括以下步骤:(1)通过在氨水中溶解GeO2粉末制得GeO2前驱体溶液,并调节前驱体溶液的PH值。(2)将溶液注入中空管中,密封中空管的两端,将所述中空管水平固定于钢套筒中,钢套筒和中空管一同缓慢旋转,通过液相沉积过程,使氧化锗薄膜均匀地生长在中空管的内壁上,取出中空管进行干燥,并进行退火处理。采用该方法制备的氧化锗薄膜沉积于中空管的内壁,结构致密无气孔,在900‑1000cm‑1附近该材料的折射率小于1,这表明波长为10.6μm的CO2激光线以适当的入射角从空气入射到GeO2界面时,会发生全反射现象。可以制备用于传播CO2激光线的光纤。 | ||
搜索关键词: | 中空管 氧化锗薄膜 制备 中空管内壁 前驱体溶液 液相沉积 钢套筒 内壁 全反射现象 缓慢旋转 结构致密 水平固定 退火处理 入射角 折射率 生长 波长 空管 入射 水中 沉积 密封 溶解 光纤 取出 传播 | ||
【主权项】:
1.一种中空管内壁上氧化锗薄膜的制备方法,其特征在于:采用液相沉积法制备生长于中空管内壁的氧化锗薄膜,所述制备方法包括以下步骤:(1)通过在氨水中溶解GeO2粉末制得GeO2前驱体溶液,并调节前驱体溶液的PH值。(2)将溶液注入中空管中,密封中空管的两端,将所述中空管水平固定于钢套筒中,钢套筒和中空管一同缓慢旋转,通过液相沉积过程,使氧化锗薄膜均匀地生长在中空管的内壁上,取出中空管进行干燥,并进行退火处理。
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