[发明专利]蒸镀基板及其蒸镀方法有效

专利信息
申请号: 201710103976.5 申请日: 2017-02-24
公开(公告)号: CN106835026B 公开(公告)日: 2019-05-28
发明(设计)人: 任晓光 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/04;C23C14/02;C23C14/50
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 430070 湖北省武汉市武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种蒸镀基板,包括基板和磁性层,所述基板包括相对设置的顶面和底面,所述磁性层设于所述顶面,所述底面用于在蒸镀过程中与金属掩膜版相对设置以形成蒸镀层,所述磁性层用于在蒸镀过程中与磁性装置相对设置,以在磁吸力作用下减少所述基板的下垂。本发明提供的一种蒸镀基板可减少蒸镀基板的下垂,提高蒸镀基板与掩模板的对位精度。
搜索关键词: 蒸镀基板 及其 方法
【主权项】:
1.一种蒸镀基板,其特征在于,包括基板和磁性层,所述基板包括相对设置的顶面和底面,所述磁性层设于所述顶面,所述底面用于在蒸镀过程中与金属掩膜版相对设置以形成蒸镀层,所述磁性层用于在蒸镀过程中与磁性装置相对设置,以在磁吸力作用下减少所述基板的下垂,所述基板顶面包括中间区域和周边区域,所述磁性层贴设于所述中间区域,所述周边区域使得所述磁性层与所述基板的边缘相间隔,所述基板上包括多层所述磁性层,多层所述磁性层叠设于所述基板顶面,相邻的两个所述磁性层中,靠近所述基板的所述磁性层面积大于远离所述基板的所述磁性层面积,且所述磁性层的中心区域正对于所述基板的中心区域。
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