[发明专利]光学膜材及其制备方法、显示基板、显示装置在审
| 申请号： | 201710123457.5 | 申请日： | 2017-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN106842682A | 公开（公告）日： | 2017-06-13 |
| 发明（设计）人： | 段献学;宫奎 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 柴亮,张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学膜材及其制备方法、显示基板、显示装置，属于显示技术领域。本发明的光学膜材包括，基底，其上具有凹槽，所述凹槽平行于其底面所在平面的横截面积，沿背离所述底面的方向逐渐增大；平坦化层，位于所述基底具有凹槽的一侧，且所述平坦化层的折射率大于所述基底的折射率。本发明中的光学膜材应用至显示基板中时，凹槽的侧面可以对入射光进行折射，从而扩大光线出射的角度范围。另外需要注意的是垂直于凹槽的底部或者垂直于凹槽之间的水平面入射的光束，经过界面处时不会发生折射，因此保持了正视角下的光的亮度。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 及其 制备 方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】：
一种光学膜材，其特征在于，包括：基底，其上具有凹槽，所述凹槽平行于其底面所在平面的横截面积，沿背离所述底面的方向逐渐增大；平坦化层，位于所述基底具有凹槽的一侧，且所述平坦化层的折射率大于所述基底的折射率。
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