[发明专利]光掩模布图以及形成精细图案的方法

摘要

本公开提供光掩模布图以及形成精细图案的方法。一种形成精细图案的方法可以被提供，该方法包括：在目标层上形成多个第一牺牲图案，该目标层在基板上；在该多个第一牺牲图案的各自的侧壁上形成第一间隔物；去除该多个第一牺牲图案；形成多个第二牺牲图案，第二牺牲图案与第一间隔物交叉，每个第二牺牲图案包括线部分和突出部部分，突出部部分具有比线部分宽的宽度；在该多个第二牺牲图案的各自的侧壁上形成第二间隔物；去除第二牺牲图案；以及通过孔区域蚀刻目标层以暴露基板，孔区域由第一间隔物和第二间隔物限定。

主权项

一种形成精细图案的方法，所述方法包括：在目标层上形成多个第一牺牲图案，所述目标层在基板上；在所述多个第一牺牲图案的各自的侧壁上形成第一间隔物；去除所述多个第一牺牲图案；形成多个第二牺牲图案，所述第二牺牲图案与所述第一间隔物交叉，每个所述第二牺牲图案包括线部分和突出部部分，并且所述突出部部分具有比所述线部分宽的宽度；在所述多个第二牺牲图案的各自的侧壁上形成第二间隔物；去除所述多个第二牺牲图案；以及通过孔区域蚀刻所述目标层以暴露所述基板，所述孔区域由所述第一间隔物和所述第二间隔物限定。