[发明专利]一种大麻的人工光环境栽培方法

摘要

本发明公开了一种大麻的人工光环境栽培方法，包括如下步骤：(1)将泥炭土和蛭石均匀混合后形成基质，保证透气渗水性良好，用稀释后的多菌灵浇灌以消毒；(2)育苗期培养；(3)生长期培养；(4)生殖期培养。本发明的人工光环境栽培方法能够提供大麻生长所需要的光照强度和光谱，为实现集约化、规模化和标准化种植大麻打下了坚实的基础。

主权项

一种大麻的人工光环境栽培方法，其特征在于：包括如下步骤：(1)将泥炭土和蛭石均匀混合后形成基质，保证透气渗水性良好，用稀释后的多菌灵浇灌以消毒；(2)育苗期培养：将步骤(1)消毒后的基质装于播种盘中，然后播种，表面覆盖薄膜，然后移入室内，于22～24℃、空气湿度60～70％的条件下培养后，剔除长势较弱的幼苗，得到高16～20cm的幼苗，具体培养条件如下：光照强度200～300umol/m2*s，光照周期20～24h/d，其中，该步骤的光照周期中的光谱能量分布如下：波长为380～399nm的光量子数所占比例≤1％，波长为400～499nm的光量子数所占比例为20～30％，波长为500～599nm的光量子数所占比例15～22％，波长为600～699nm的光量子数所占比例为50～56％，波长为700～780nm的光量子数所占比例≤2％；(3)生长期培养：将步骤(2)获得的幼苗移植到培养盆中，于22～24℃、空气湿度60～70％的条件下进行定植培养至植株高度超过1m，同时根据土壤湿度和大麻生长情况定期浇水和营养液，统计株高和节间长度，具体培养条件如下：光照强度400～500umol/m2*s，光照周期20～24h/d，其中，该步骤的光照周期中的光谱能量分布如下：波长为380～399nm的光量子数所占比例≤3％，波长为400～499nm的光量子数所占比例为10～15％，波长为500～599nm的光量子数所占比例为20～30％，波长为600～699nm的光量子数所占比例为45～55％，波长为700～780nm的光量子数所占比例为10～16％；(4)生殖期培养：步骤(3)获得的植株打顶，去掉顶梢1.5～2.5cm，以促进分支生长，然后于22～24℃、空气湿度60～70％的条件下进行培养至开花且超过50％的花苞里的须毛变成橘色或是泛红的紫色，即可采收，具体培养条件如下：光照强度400～500umol/m2*s，光照周期小于12h/d以促进开花，其中，该步骤的光照周期中的光谱能量分布如下：波长为380～399nm的光量子数所占比例≤2％，波长为400～499nm的光量子数所占比例为10～15％，波长为500～599nm的光量子数所占比例为20～30％，波长为600～699nm的光量子数所占比例为40～50％，波长为700～780nm的光量子数所占比例为10～15％。