[发明专利]承载装置和曝光设备有效
| 申请号： | 201710129757.4 | 申请日： | 2017-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN106773553B | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 陈启超;周子卿;韩乾浩 | 申请（专利权）人： | 重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;陈源 |
| 地址： | 400714 重庆市北*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明提供一种承载装置，包括承载台，所述承载台上设置有贯穿该承载台的升降通道，所述升降通道内设置有升降结构，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间存在间隔，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间还设置有光反射补偿块，所述光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率之差、所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。相应地，本发明还提供一种曝光设备。本发明能够使得基板上不同位置的光刻胶曝光程度更加均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 承载 装置 曝光 设备 | ||
【主权项】：
1.一种承载装置，包括承载台，所述承载台上设置有贯穿该承载台的升降通道，所述升降通道内设置有升降结构，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间存在间隔，其特征在于，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间还设置有光反射补偿块，所述光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率之差、所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值，所述预定阈值为2％；所述升降结构包括升降部和设置在该升降部顶端的支撑部；所述光反射补偿块包括安装本体和设置在该安装本体顶面的反射层，所述反射层的上表面形成为所述光反射补偿块的顶面；所述安装本体包括设置在所述升降通道内壁上的外环体和设置在所述支撑部上、并环绕该支撑部的内环体。
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