[发明专利]集成电路器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710130993.8 申请日: 2017-03-07
公开(公告)号: CN107170741B 公开(公告)日: 2023-07-04
发明(设计)人: 郑在烨;严命允;车东镐;刘庭均;朴起宽 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L21/8234
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 屈玉华
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种集成电路(IC)器件包括:彼此邻近的一对鳍形有源区,在其间有鳍分离区,所述一对鳍形有源区延伸成一行;以及在鳍分离区中的鳍分离绝缘结构,其中所述一对鳍形有源区包括第一鳍形有源区,第一鳍形有源区具有限定部分的鳍分离区的第一拐角,并且其中鳍分离绝缘结构包括:下绝缘图案,覆盖所述一对鳍形有源区的侧壁;以及上绝缘图案,在下绝缘图案上以覆盖第一拐角的至少部分,上绝缘图案具有在比所述一对鳍形有源区的每个的顶表面高的水平处的顶表面。
搜索关键词: 集成电路 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种集成电路(IC)器件,包括:彼此邻近的一对鳍形有源区,在其间有鳍分离区,所述一对鳍形有源区延伸成一行;以及在所述鳍分离区中的鳍分离绝缘结构,其中所述一对鳍形有源区包括第一鳍形有源区,所述第一鳍形有源区具有限定部分的所述鳍分离区的第一拐角,以及其中所述鳍分离绝缘结构包括:下绝缘图案,覆盖所述一对鳍形有源区的侧壁,以及上绝缘图案,在所述下绝缘图案上以覆盖所述第一拐角的至少部分,所述上绝缘图案具有在比所述一对鳍形有源区的每个的顶表面高的水平处的顶表面。
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