[发明专利]一种薄膜流平设备有效
申请号: | 201710137893.8 | 申请日: | 2017-03-09 |
公开(公告)号: | CN106784411B | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 薛金祥;孙中元;周翔;刘文祺 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/52 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 刘悦晗;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种薄膜流平设备包括空化装置和用于气浮基板的气浮平台,空化装置设置于基板的上方,空化装置可以在气浮平台的范围内水平移动,从而对气浮于气浮平台上方的基板的进行扫描,去除基板封装过程中墨水内部以及孔洞中形成的气泡,避免气泡破裂形成空洞,从而提高产品品质和产品良率。对于PPI较大的显示器件来说,产品品质提高的效果尤为明显。 | ||
搜索关键词: | 一种 薄膜 设备 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜流平设备,包括用于气浮基板的气浮平台,其特征在于,还包括空化装置,所述空化装置设置于所述气浮平台和基板的上方,且能够在所述气浮平台的范围内水平移动,用于去除所述基板在封装过程中产生的气泡;所述空化装置为用于产生超声波的超声波发生装置,所述超声波发生装置产生的超声波作用于所述基板上;还包括流平装置,所述流平装置设置于所述气浮平台和基板的上方,且能够在所述气浮平台的范围内水平移动;所述流平装置为用于产生次声波的次声波发生装置,所述次声波发生装置产生的次声波作用于所述基板上。
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