[发明专利]辅助曝光装置有效
| 申请号： | 201710149843.1 | 申请日： | 2017-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN107193185B | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 佐竹顺;太田义治 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够提高曝光解像度的辅助曝光装置。本实施方式的辅助曝光装置配置在对被处理基板进行曝光处理的曝光装置的前级侧或者后级侧，对被处理基板进行局部曝光处理，包括搬送部和光源单元。搬送部将被处理基板在扫描方向上搬送。光源单元对在扫描方向上被搬送的被处理基板，照射以与扫描方向交叉的方向为长边方向的线状的光。另外，光源单元构成为包含将多个可动式微反射镜排列而成的数字微反射镜器件。 | ||
| 搜索关键词： | 辅助 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种辅助曝光装置，其特征在于：配置在对被处理基板进行曝光处理的曝光装置的前级侧或者后级侧，对所述被处理基板进行局部曝光处理，所述辅助曝光装置包括：搬送部，该搬送部将所述被处理基板在扫描方向上搬送；和光源单元，该光源单元对在所述扫描方向上被搬送的所述被处理基板，照射以与所述扫描方向交叉的方向为长边方向的线状的光，所述光源单元包含将多个可动式微反射镜排列而成的数字微反射镜器件。
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