[发明专利]具有薄膜图案的基板及形成薄膜图案于基板的方法有效

专利信息
申请号: 201710153584.X 申请日: 2017-03-15
公开(公告)号: CN107203093B 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 许铭案 申请(专利权)人: 许铭案
主分类号: G03F1/68 分类号: G03F1/68
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 毛广杰
地址: 中国台湾苗栗*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种具有薄膜图案的基板及形成薄膜图案于基板的方法,所述具有薄膜图案的基板包含:一基板;至少一薄膜图案层,配置于该基板上;及一周边图案层,配置于该基板上,无缝地环绕于该薄膜图案层。本发明运用光阻掀离制程的技术手段,来实现一次光罩、无蚀刻或一次蚀刻的技术功效,并达到无缝薄膜图案制作的特殊技术功效。
搜索关键词: 具有 薄膜 图案 形成 方法
【主权项】:
一种形成薄膜图案于基板的方法,其特征在于,包含以下步骤:于一基板上形成一基底色层;于具有该基底色层的该基板上形成一掀离光阻层;以一光罩贴合于该基板上;曝光;移除未被曝光的该掀离光阻层,并形成一图案空间;移除该掀离光阻层所构成的该图案空间下方的该基底色层;于具有该图案空间的该基板上形成至少一薄膜层;及移除该掀离光阻层以形成一薄膜图案,使该薄膜图案与未被移除的该基底色层形成相邻接的无缝紧密结构。
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