[发明专利]具有薄膜图案的基板及形成薄膜图案于基板的方法有效
申请号: | 201710153584.X | 申请日: | 2017-03-15 |
公开(公告)号: | CN107203093B | 公开(公告)日: | 2021-01-12 |
发明(设计)人: | 许铭案 | 申请(专利权)人: | 许铭案 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人: | 毛广杰 |
地址: | 中国台湾苗栗*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种具有薄膜图案的基板及形成薄膜图案于基板的方法,所述具有薄膜图案的基板包含:一基板;至少一薄膜图案层,配置于该基板上;及一周边图案层,配置于该基板上,无缝地环绕于该薄膜图案层。本发明运用光阻掀离制程的技术手段,来实现一次光罩、无蚀刻或一次蚀刻的技术功效,并达到无缝薄膜图案制作的特殊技术功效。 | ||
搜索关键词: | 具有 薄膜 图案 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种形成薄膜图案于基板的方法,其特征在于,包含以下步骤:于一基板上形成一基底色层;于具有该基底色层的该基板上形成一掀离光阻层;以一光罩贴合于该基板上;曝光;移除未被曝光的该掀离光阻层,并形成一图案空间;移除该掀离光阻层所构成的该图案空间下方的该基底色层;于具有该图案空间的该基板上形成至少一薄膜层;及移除该掀离光阻层以形成一薄膜图案,使该薄膜图案与未被移除的该基底色层形成相邻接的无缝紧密结构。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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