[发明专利]蒸镀坩埚及蒸镀装置有效
申请号: | 201710161640.4 | 申请日: | 2017-03-17 |
公开(公告)号: | CN106868455B | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 任晓光 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 430070 湖北省武汉市武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供了一种蒸镀坩埚,包括坩埚本体及坩埚盖,所述坩埚本体用于盛放蒸发材料,所述坩埚盖设于所述坩埚本体上,并与所述坩埚本体相间隔,所述坩埚盖内设有多个相间隔设置的挡板,所述挡板一端固定于所述坩埚盖,另一端朝向所述坩埚本体延伸,所述挡板及所述坩埚盖用于承载所述蒸镀坩埚中受热蒸发的所述蒸发材料。本发明还提供了一种蒸镀装置。本发明提供的蒸镀坩埚和蒸镀装置可减少坩埚盖上的沉积材料脱落及防止沉积材料堵塞蒸发源。 | ||
搜索关键词: | 坩埚 装置 | ||
【主权项】:
1.一种蒸镀坩埚,其特征在于,包括坩埚本体及坩埚盖,所述坩埚本体用于盛放蒸发材料,所述坩埚盖设于所述坩埚本体上,并与所述坩埚本体相间隔,所述坩埚盖具有朝向所述坩埚本体的盖面,所述坩埚盖的盖面上设有多个相间隔设置的挡板,所述挡板的一端固定于所述坩埚盖,另一端朝向所述坩埚本体延伸,所述挡板及所述坩埚盖用于承载所述蒸镀坩埚中受热蒸发的所述蒸发材料,在从所述盖面的中心区域至周边区域的方向,所述挡板的另一端朝向所述坩埚本体的延伸长度逐渐增加。
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