[发明专利]一种处理滤膜得到校准尘膜的方法以及一种由校准尘膜进行场外校准的方法

摘要

本发明属于颗粒物检测技术领域，为了能够准确地对β射线法颗粒物自动分析仪进行校准，提供了一种处理滤膜得到校准尘膜的方法以及一种由校准尘膜进行场外校准的方法。本发明通过筛选一批符合特定要求的滤膜作为基体滤膜，在实际环境中处理得到校准尘膜。通过测量采样前后的β粒子计数值，反推出修正系数K，使用修正系数K对β射线法悬浮颗粒物分析仪进行修正。根据实施例的计算结果可知，使用校准尘膜对β射线法悬浮颗粒物分析仪校准，校准后β射线法悬浮颗粒物分析仪所测浓度更加接近于手工浓度，CV值约为7～8％，能够更好地反映空气中PM污染浓度的变化情况。

主权项

1.一种处理滤膜得到校准尘膜的方法，包含以下步骤：(1)对基体滤膜进行基础筛选，得到待测空白基体滤膜；所述基础筛选的标准为：①孔径和厚度：孔径≤2μm，厚度为0.2～0.25mm；②截留效率：作为PM10采样滤膜时，对0.3μm颗粒物的截留效率≥99％；作为PM2.5采样滤膜时，对0.3μm颗粒物的截留效率≥99.7％；③最大压降：在0.45m/s的洁净空气流速时，压降≤3KPa；④最大吸湿性：暴露在湿度为40％RH的空气中24h后与暴露在湿度为35％RH的空气中24h后的质量增加值≤10μg；⑤重量稳定性：坠落测试平均质量变化≤20μg，温度测试平均质量变化≤20μg；(2)以β射线法颗粒物分析仪外部膜片测量功能，测量不放置滤膜状态下的初始β射线强度，记为I；将所述待测空白基体滤膜放置在膜托上，将所述膜托按照一定角度等分为多个点位；对不同点位的β射线强度值进行测量，记为Iⁿ，得到不同点位的ln(I/Iⁿ)值；所述n为不同点位的标号；依据得到的待测空白基体滤膜的ln(I/Iⁿ)值进行稳定性筛选：同一张待测空白基体滤膜不同点位ln(I/Iⁿ)值的变异系数CV≤0.20％的滤膜为一级稳定基体滤膜；分别将每张一级稳定基体滤膜中不同点位的ln(I/Iⁿ)值取均值，得到每张一级稳定基本滤膜的ln(I/Iⁿ)均值，根据所述ln(I/Iⁿ)均值筛选出至少10张ln(I/Iⁿ)均值的变异系数CV≤0.25％的二级稳定基体滤膜；(3)对所述步骤(2)筛选到的二级稳定基体滤膜进行称重；(4)保留至少1张二级稳定基体滤膜作为空白对照滤膜；将剩余二级稳定基体滤膜至少分成三组，每组至少包含3张滤膜作为实验滤膜用于采集校准尘；将得到的附着有校准尘的二级稳定基体滤膜进行称重，得到滤膜采样前后的质量差，计算得到PM质量浓度；(5)以β射线法颗粒物分析仪外部膜片测量功能，测量不放置滤膜状态下的初始β射线强度，记为I′；将所述附着有校准尘的二级稳定基体滤膜放置在膜托上，根据所述步骤(2)中的点位设置对不同点位的β射线强度值进行测量，记为I′ⁿ，得到不同点位的ln(I′/I′ⁿ)值；所述n为不同点位的标号；筛选同一张附着有校准尘的二级稳定基体滤膜的不同点位ln(I′/I′ⁿ)值的变异系数CV≤0.20％的滤膜为校准尘膜。