[发明专利]有机发光二极管蒸镀膜补偿的方法有效
申请号: | 201710168825.8 | 申请日: | 2017-03-21 |
公开(公告)号: | CN106987821B | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 裴龙 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及一种有机发光二极管蒸镀膜补偿的方法,涉及真空蒸镀技术领域,解决了现有技术中存在的生产过程中可操作性差、需要进行多次参数的更改和生产效率低的技术问题。本发明的方法是通过在晶振片不同的寿命周期蒸镀时,采用不用的Z值,以及相应的调整修正值之后在进行下一个寿命周期的蒸镀,能够使生产过程中需要更改的参数大大减少,并且实际膜厚与晶体管的频率之间的变化趋势趋于线性,使产品的品质更可靠,能够提高产品的合格率和生产效率。 | ||
搜索关键词: | 有机 发光二极管 镀膜 补偿 方法 | ||
【主权项】:
1.一种有机发光二极管蒸镀膜补偿的方法,其特征在于,包括以下步骤:S10:将Z值设定为Z0,Z0为大于1且小于99的整数;将修正值T设定为与Z0对应的初始修正值T0;设定目标膜厚D后从晶振片的初始寿命周期开始进行蒸镀;S20:获得步骤S10中的实际膜厚d0,所述实际膜厚d0与目标膜厚D相同;S30:进行晶振片的第n个寿命周期蒸镀,获得相应的实际膜厚dn,若实际膜厚dn与目标膜厚D满足下列定义式:其中,n为大于等于1的整数;D为目标膜厚;dn为晶振片的第n个寿命周期的实际膜厚;Q为1.5%;则将Z值更改为Zn,Zn为大于1且小于99的整数,且Zn不等于Z0;其中,Zn为晶振片的第n个寿命周期的Z值;Z0为晶振片的初始寿命周期的Z值;并将修正值T更改为与Zn对应的初始修正值Tn0;S40:进行晶振片的第n+1个寿命周期蒸镀,直至最后一个寿命周期结束为止。
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