[发明专利]相移掩模坯板、相移掩模及显示装置的制造方法

摘要

本发明提供一种相移掩模坯板，抑制制作相移掩模时的蚀刻液的消耗量，且用于得到精细且高精度的图案和不产生凹缺陷的相移掩模。相移掩模坯板(10)在透明基板(11)上将相移膜(12)、蚀刻阻止膜(13)、遮光膜(14)依次形成，相移膜(12)由含有铬和选自氧、氮、碳、氟中的至少一种的铬化合物构成，蚀刻阻止膜(13)由含有金属和硅的金属硅化物构成，相移膜(12)和遮光膜(14)是能够用同一蚀刻液A进行蚀刻的材料，且调整为蚀刻液A对遮光膜(14)的湿法蚀刻速度比蚀刻液A对相移膜(12)的湿法蚀刻速度更快，蚀刻阻止膜(13)是对于遮光膜(14)的蚀刻液A具有耐蚀刻性的材料，且调整蚀刻阻止膜(13)的膜厚、材料、组成比，以使蚀刻阻止膜(13)被能够蚀刻蚀刻阻止膜(13)的蚀刻液B剥离为止所需的时间成为15分钟以下。

主权项

一种相移掩模坯板，其特征在于，所述相移掩模坯板是相移掩模的原版，所述相移掩模是在透明基板上将相移膜、蚀刻阻止膜、遮光膜分别通过湿法蚀刻进行构图，形成包含遮光部、相移部、透光部的转印图案而制成的相移掩模，所述相移掩模使透过所述相移部的光的相位和透过所述透光部的光的相位不同，由此使通过所述相移部和所述透光部的边界部附近的光相互抵消而提高边界部的对比度，所述相移掩模坯板中，在所述透明基板上依次形成有相移膜、蚀刻阻止膜、遮光膜，所述相移膜由含有铬和选自氧、氮、碳、氟中的至少一种的铬化合物构成，所述蚀刻阻止膜由含有金属和硅的金属硅化物构成，所述相移膜和所述遮光膜是能够用同一蚀刻液A进行蚀刻的材料，且调整为所述蚀刻液A对所述遮光膜的湿法蚀刻速度比所述蚀刻液A对所述相移膜的湿法蚀刻速度更快，所述蚀刻阻止膜是对于所述遮光膜的蚀刻液A具有耐蚀刻性的材料，且调整所述蚀刻阻止膜的膜厚、材料、组成比，以使所述蚀刻阻止膜被能够蚀刻所述蚀刻阻止膜的蚀刻液B剥离为止所需的时间成为15分钟以下。