[发明专利]图案修正方法、光掩模及其制造方法以及修正膜形成装置

摘要

本发明提供图案修正方法、光掩模及其制造方法以及修正膜形成装置。提供一种技术，在利用激光CVD法修正在光掩模的转印用图案中产生的缺陷时，能够利用比以往更抑制了透过率分布的偏差的修正膜来修正转印用图案的缺陷。图案修正方法是对于在基板的主表面上形成有转印用图案的光掩模的转印用图案形成修正膜的方法，其具有：确定形成修正膜的对象区域的区域确定工序；和在原料气体的气氛中在对象区域内照射激光而形成修正膜的成膜工序，在成膜工序中，通过在对象区域内照射从激光振荡器射出的激光而形成规定尺寸的单位修正膜，并且，在对象区域内使多个单位修正膜各自的一部分彼此重合来形成具有规定膜厚的修正膜。

主权项

一种图案修正方法，在该图案修正方法中，对于在基板的主表面上形成有转印用图案的光掩模的所述转印用图案形成修正膜，其特征在于，所述图案修正方法具有：确定形成所述修正膜的对象区域的区域确定工序；和在原料气体的气氛中在所述对象区域内照射激光而形成所述修正膜的成膜工序，在所述成膜工序中，通过在所述对象区域内照射从激光振荡器射出的激光而形成规定尺寸的单位修正膜，并且，在所述对象区域内，通过使多个所述单位修正膜各自的一部分彼此重合来形成具有规定膜厚的修正膜。