[发明专利]叠层结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710188507.8 申请日: 2017-03-27
公开(公告)号: CN106952927A 公开(公告)日: 2017-07-14
发明(设计)人: 元淼;赵娜 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京市中咨律师事务所11247 代理人: 牛南辉,李峥
地址: 230012 安徽*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种叠层结构及其制备方法。所述叠层结构包括基板;位于所述基板上的至少一个材料层;穿过所述至少一个材料层的至少一部分的过孔,其中,所述过孔具有台阶状的侧表面;以及保形覆盖所述过孔的侧表面的另一材料层。所述至少一个材料层的厚度与所述另一材料层的厚度的比率大于10。本公开实施例提供的叠层结构能够降低材料覆盖过孔时由于材料爬坡困难而发生断线的风险,提高产品良率。
搜索关键词: 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
一种叠层结构,其特征在于,包括:基板;位于所述基板上的至少一个材料层;穿过所述至少一个材料层的至少一部分的过孔,其中,所述过孔具有台阶状的侧表面;以及保形覆盖所述过孔的侧表面的另一材料层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710188507.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top