[发明专利]一种掩膜板及其制造方法有效
| 申请号： | 201710200644.9 | 申请日： | 2017-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN106909023B | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 宋萍;李红敏;董职福;薛伟;廖力勍 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38;G03F1/54;G02F1/1339;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 林桐苒;李丹 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板及其制造方法，所述掩膜板包括可透光基板，形成在所述可透光基板上的掩膜图形，所述可透光基板的透过率从边缘到中心递减。本发明实施例提供的掩膜板，通过透过率不同补偿由于曝光距离不同导致的柱状隔垫物高度不一致，使得柱状隔垫物高度更为均一，从而提供液晶产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种掩膜板，包括可透光基板，形成在所述可透光基板上的掩膜图形，其特征在于，所述可透光基板的透过率从边缘到中心递减。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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