[发明专利]一种枝晶铂修饰的微电极阵列及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710203187.9 申请日: 2017-03-30
公开(公告)号: CN108652618B 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 夏凯;吴天准;孙滨;曾齐 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: A61B5/263 分类号: A61B5/263;A61B5/283;A61B5/293;B81C1/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种枝晶铂修饰的微电极阵列,所述微电极阵列的电极表面设置有枝晶铂修饰层。该微电极阵列以枝晶铂为表面修饰层,修饰层与微电极基底的结合力较好,不容易脱落导致电极失效,并且修饰后的微电极表面积极大地增加,其电化学阻抗明显降低,电极电荷注入容量和电荷存储能力大大增加,这有利于降低植入的系统功耗,改善电刺激效果,同时修饰层具有良好的生物相容性以及机械稳定性,使其在生物医学领域的应用大大增加。本发明还提供了一种枝晶铂修饰的微电极阵列的制备方法。以电化学沉积的方式,将微电极阵列的表面修饰了一层枝晶铂修饰层,该方法溶液配制简单,且无其他有毒物质如铅等添加剂,条件温和、简单易行。
搜索关键词: 一种 枝晶铂 修饰 微电极 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种枝晶铂修饰的微电极阵列,其特征在于,所述微电极阵列的电极表面设置有枝晶铂修饰层。
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