[发明专利]晶片抛光系统

摘要

公开了晶片抛光系统。晶片抛光系统可包括：抛光单元；安装在抛光单元上并分配浆料流入抛光单元内用来晶片抛光的浆料分配单元；连接到浆料分配单元并储存浆料的浆料储罐；连接到抛光单元和浆料储罐的浆料泵，以将浆料从浆料储罐传输到抛光单元；第一循环管线，其一侧连接到浆料储罐；第二循环管线，其一侧连接到第一循环管线的另一侧，而另一侧连接到浆料分配单元；以及连接到第二循环管线的清洁液体供应单元，用来供应流过第二循环管线的清洁液体。

主权项

1.一种晶片抛光系统包括：抛光单元；浆料分配单元，所述浆料分配单元安装在所述抛光单元上并分配浆料流入所述抛光单元内用于晶片抛光；浆料储罐，所述浆料储罐连接到所述浆料分配单元并储存浆料；浆料泵，所述浆料泵连接到所述抛光单元和所述浆料储罐，以将浆料从所述浆料储罐传输到所述抛光单元；第一循环管线，所述第一循环管线的一侧连接到所述浆料储罐；第二循环管线，所述第二循环管线的一侧连接到所述第一循环管线的另一侧，而所述第二循环管线的另一侧连接到所述浆料分配单元；以及连接到所述第二循环管线的清洁液体供应单元，用来供应流过所述第二循环管线的清洁液体。