[发明专利]光掩模坯基板收纳容器、光掩模坯基板的保管方法以及光掩模坯基板的输送方法在审
申请号: | 201710224861.1 | 申请日: | 2017-04-07 |
公开(公告)号: | CN107272328A | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
发明(设计)人: | 伊藤祥刚;小板桥龙二 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66;H01L21/673 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人: | 李英艳,张永康 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的课题在于,提供一种能抑制对抗蚀剂图案的影响且能保管、输送光掩模坯基板的光掩模坯基板收纳容器。为此,提供一种光掩模坯基板收纳容器,其特征在于,具备内部构件,其具有内部盒体与保持构件;容器本体,其具有下箱与上盖;及,密封带;容器本体和内部构件由高分子系材料构成,该高分子系材料在采取0.1g样品时在以40℃保持60分钟的情况下释放的排气成分中,根据气相色谱质谱仪检测到的排气总量以正十四烷换算为1.9×103ng以下,密封带在采取10mm×10mm尺寸的样品时在以150℃保持10分钟的情况下释放的排气成分中,根据气相色谱质谱仪检测到的排气总量以正十四烷换算为1.8×103ng以下。 | ||
搜索关键词: | 光掩模坯基板 收纳 容器 保管 方法 以及 输送 | ||
【主权项】:
一种光掩模坯基板收纳容器,用于收纳光掩模坯基板,所述光掩模坯基板收纳容器的特征在于,具备:内部构件,所述内部构件具有内部盒体与保持构件,所述内部盒体可以收容所述光掩模坯基板,所述保持构件从上方固定已收纳在所述内部盒体中的所述光掩模坯基板;容器本体,所述容器本体具有下箱与上盖,所述下箱可以收容所述内部盒体,所述上盖可以在内侧嵌合所述保持构件;以及,密封带,所述密封带密封所述容器本体;所述容器本体和所述内部构件由高分子系材料构成,所述高分子系材料在采取0.1g样品时在以40℃保持60分钟的情况下释放的排气成分中,根据气相色谱质谱仪检测到的排气总量以正十四烷换算为1.9×103ng以下,所述密封带在采取10mm×10mm尺寸的样品时在以150℃保持10分钟的情况下释放的排气成分中,根据气相色谱质谱仪检测到的排气总量以正十四烷换算为1.8×103ng以下。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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