[发明专利]抛光设备及检测方法有效
| 申请号： | 201710254306.3 | 申请日： | 2017-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN108723986B | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 马修·埃德温 | 申请（专利权）人： | 上海新昇半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B23Q15/22 | 分类号： | B23Q15/22;B24B37/28 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 余昌昊 |
| 地址： | 201306 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种抛光设备及检测方法。本发明提供的抛光设备，包括壳体，位于所述壳体内的多个载体，位于所述壳体上的第一定位器和第二定位器，所述第一定位器指示所述载体的插入位置，所述第二定位器确认相邻载体之间的位置关系。由此，在利用本发明提供的抛光设备进行加工时，能够确保每个载体的正确插入，从而避免晶圆受损。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 设备 检测 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抛光设备，包括：壳体，位于所述壳体内的多个载体，位于所述壳体上的第一定位器和第二定位器，所述第一定位器指示所述载体的插入位置，所述第二定位器确认相邻载体之间的位置关系。
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