[发明专利]着色硬化膜的制造方法及像素图案的形成方法在审
| 申请号： | 201710273429.1 | 申请日： | 2017-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN107329366A | 公开（公告）日： | 2017-11-07 |
| 发明（设计）人： | 柳政完;杉田光;河合孝広;田中圭;佐藤光央 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/40;G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人： | 杨文娟,臧建明 |
| 地址： | 日本东京港*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种即便进行低温的后烘烤，也难以进行色移，且耐溶剂性及与基板的密接性良好的着色硬化膜的制造方法。一种着色硬化膜的制造方法，其特征在于包括下述的步骤(1)～步骤(4)，步骤(1)将含有(A)着色剂、(B)聚合性化合物及(C)感放射线性聚合起始剂的着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜的步骤；步骤(2)对所述步骤(1)中所获得的涂膜照射放射线(1)的步骤；步骤(3)对所述步骤(2)中所获得的涂膜进行显影的步骤；步骤(4)对所述步骤(3)中所获得的涂膜照射放射线(2)的步骤，其中，放射线(1)与放射线(2)可相同，也可以不同。 | ||
| 搜索关键词： | 着色 硬化 制造 方法 像素 图案 形成 | ||
【主权项】：
一种着色硬化膜的制造方法，其特征在于包括下述的步骤1～步骤4，步骤1：将含有A着色剂、B聚合性化合物及C感放射线性聚合起始剂的着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜的步骤；步骤2：对所述步骤1中所获得的涂膜照射放射线1的步骤；步骤3：对所述步骤2中所获得的涂膜进行显影的步骤；步骤4：对所述步骤3中所获得的涂膜照射放射线2的步骤，其中，放射线1与放射线2可相同，也可以不同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JSR株式会社，未经JSR株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710273429.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：高低跨瓦屋面的防水施工方法
- 下一篇：一种等离子显示屏电极用高强感光显影树脂
