[发明专利]电极结构的制备方法、电极结构、薄膜晶体管及显示装置

摘要

本发明公开了一种电极结构的制备方法、电极结构、薄膜晶体管及显示装置，包括：在衬底基板上依次形成金属薄膜层、多晶硅薄膜和光阻层；对光阻层进行曝光显影，形成光阻层的图形；保留光阻层的图形下方对应的多晶硅薄膜，去除剩余其他区域的多晶硅薄膜；以光阻层的图形为掩膜采用湿法刻蚀方法对金属薄膜层进行构图形成金属电极的图形；去除光阻层的图形。在金属薄膜层上形成光阻层之前在金属薄膜层上形成了多晶硅薄膜，由于该多晶硅薄膜的表面凹凸不平，因此可以增加光阻层与金属薄膜层表面的粘附力，从而在以光阻层的图形为掩膜，采用湿法刻蚀方法对金属薄膜层进行构图时，光阻层不容易从金属薄膜层的表面脱落，保证了刻蚀工艺的顺利进行。

主权项

1.一种电极结构的制备方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成金属薄膜层；在所述金属薄膜层上依次形成多晶硅薄膜和光阻层；对所述光阻层进行曝光显影，形成光阻层的图形；保留所述光阻层的图形下方对应的所述多晶硅薄膜，去除剩余其他区域的所述多晶硅薄膜；以所述光阻层的图形为掩膜，采用湿法刻蚀方法对所述金属薄膜层进行构图，形成金属电极的图形；去除所述光阻层的图形。