[发明专利]极紫外光的光刻光罩有效
| 申请号： | 201710285380.1 | 申请日： | 2017-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN107367904B | 公开（公告）日： | 2020-02-28 |
| 发明（设计）人： | Z·J·齐;C·A·特利;J·H·兰金 | 申请（专利权）人： | 格罗方德半导体公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟;王锦阳 |
| 地址： | 英属开曼群*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本揭示内容涉及极紫外光的光刻光罩，其有关于半导体结构，且更特别的是，有关于极紫外光的光刻光罩的修饰表面及制造方法。该结构包括具有图案化设计的反射表面，以及在该图案化设计的边缘的黑色边界区。该黑色边界区包括修饰表面形态以引导光线远离而不抵达后续反射体。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外光 光刻 | ||
【主权项】：
一种结构，包含：反射表面，包含在吸收材料内的图案化设计；以及黑色边界区，在该图案化设计的边缘，该黑色边界区包含下方衬底的修饰表面形态以引导光线远离而不抵达后续反射体。
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