[发明专利]一种薄膜晶体管及其制作方法、显示面板、显示装置有效
| 申请号： | 201710287331.1 | 申请日： | 2017-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN107123686B | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 周宏儒;赵永亮;毕鑫 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L29/417;H01L29/423;H01L21/336;H01L21/28 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 莎日娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种薄膜晶体管及其制作方法、显示面板、显示装置，包括：位于基板上处于同层的第一栅极、源极和漏极，所述源极与所述第一栅极之间形成有第一缺口，所述漏极与所述第一栅极之间形成有第二缺口；覆盖在所述第一栅极上的栅极绝缘层；覆盖在所述源极、所述栅极绝缘层、所述漏极上以及填充在所述第一缺口及所述第二缺口的半导体层，从而简化了双栅极薄膜晶体管的工艺流程，进而提高产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜晶体管 及其 制作方法 显示 面板 显示装置 | ||
【主权项】：
一种薄膜晶体管，其特征在于，包括：位于基板上处于同层的第一栅极、源极和漏极，所述源极与所述第一栅极之间形成有第一缺口，所述漏极与所述第一栅极之间形成有第二缺口；覆盖在所述第一栅极上的栅极绝缘层；覆盖在所述源极、所述栅极绝缘层、所述漏极上以及填充在所述第一缺口及所述第二缺口的半导体层。
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