[发明专利]测量系统、方法及装置、可读存储介质有效

专利信息
申请号: 201710296135.0 申请日: 2017-04-28
公开(公告)号: CN108801161B 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 姜红光 申请(专利权)人: 北京小米移动软件有限公司
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06
代理公司: 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 代理人: 林祥;李威
地址: 100085 北京市海淀区清河*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开是关于一种测量系统、方法及装置、可读存储介质,该测量系统用于测量待测结构上的高度尺寸,待测结构包括水平底板及与水平底板连接的垂直侧板,垂直侧板的内侧壁上设有待测点,待测点在水平方向上不超出垂直侧板的内侧壁;测量系统包括测量仪和反射器,反射器包括可朝向于垂直侧板设置的反射面,反射面用于将从待测点水平发出的入射光线垂直反射至测量仪的探头;测量仪对焦捕捉待测点在反射面上的对应入射点,并获取入射点至基准面的高度,以根据垂直侧板的顶面至基准面的高度,计算出待测点至垂直侧板的顶面的高度。通过本公开可以在不损坏待测结构的基础上,得到垂直侧板的内侧壁上待测点至顶面的高度,保证待测结构尺寸的精准性。
搜索关键词: 测量 系统 方法 装置 可读 存储 介质
【主权项】:
1.一种测量系统,其特征在于,用于测量待测结构上的高度尺寸,所述待测结构包括水平底板及与所述水平底板连接的垂直侧板,所述垂直侧板的内侧壁上设有待测点,所述待测点在水平方向上不超出所述垂直侧板的内侧壁;所述测量系统包括测量仪和反射器,所述反射器包括可朝向于所述垂直侧板设置的反射面,所述反射面用于将从所述待测点水平发出的入射光线垂直反射至所述测量仪的探头;所述测量仪对焦捕捉所述待测点在所述反射面上的对应入射点,并获取所述入射点至基准面的高度,以根据所述垂直侧板的顶面至所述基准面的高度,计算出所述待测点至所述垂直侧板的顶面的高度。
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