[发明专利]半导体器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201710315963.4 申请日: 2017-05-08
公开(公告)号: CN108878461A 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 戚德奎;陈福成 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 王莉莉
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本申请公开了一种半导体器件及其制造方法,涉及半导体技术领域。该器件包括:设置在器件晶片的电介质层中的金属连线;位于金属连线上方的第一开口,第一开口的深度与金属连线齐平;位于器件两端的第二开口,第二开口的深度与第一开口的深度相同;覆盖在第一开口和第二开口的侧壁上的隔离层,隔离层由滤色材料构成。该器件和方法能够简化焊盘引出和隔离的工艺步骤,满足背面密封环的技术需求。
搜索关键词: 开口 金属连线 半导体器件 隔离层 半导体技术领域 电介质层 工艺步骤 技术需求 滤色材料 器件晶片 密封环 侧壁 焊盘 齐平 制造 背面 隔离 覆盖 申请
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:设置在器件晶片的电介质层中的金属连线;位于所述金属连线上方的第一开口,所述第一开口的深度与所述金属连线齐平;覆盖在所述第一开口的侧壁上的第一隔离层,所述第一隔离层由第一滤色材料构成。
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