[发明专利]干燥装置有效
| 申请号： | 201710316370.X | 申请日： | 2017-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN107065433B | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 林治明;尹志;杨成发;王震;唐富强;黄俊杰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 黄灿;张博 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种干燥装置，用于掩膜板的干燥，包括干燥腔室，所述干燥腔室端口处设有风刀，所述干燥腔室侧壁靠近所述干燥腔室的底部的位置均设有用于将风刀产生的气流排出的出风口。本发明的有益效果是：出风口的设置减少了反弹气流的产生，从而减少反弹气流带起的灰尘对掩膜板的影响提高产品蒸镀良率。 | ||
| 搜索关键词： | 干燥 装置 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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