[发明专利]一种光罩及玻璃基底的制作方法在审

专利信息
申请号: 201710320815.1 申请日: 2017-05-09
公开(公告)号: CN106933023A 公开(公告)日: 2017-07-07
发明(设计)人: 柳铭岗 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G03F1/38 分类号: G03F1/38;G02F1/13
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 代理人: 吴大建,何娇
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提出了一种光罩,该光罩包括透光区和阻光区,该光罩还包括部分透光区;所述部分透光区位于所述阻光区和透光区之间,以允许光线部分透过。所述部分透光区包括若干相同的遮光膜,相邻遮光膜之间形成透光的缝隙,所述部分透光区的透过率沿透光区向阻光区方向逐渐减小。本发明的有益效果通过设置透光缝隙宽度沿透光区向阻光区方向呈现函数型规律变化的部分透光区,控制对应部分透光区位置的光阻的曝光程度,使得蚀刻剥膜后薄膜的边缘形成平缓的、弧面的或者其他形式的过渡面,保证交迭其上的次道薄膜爬坡时不易断裂,同时降低该次道薄膜在其后制程处理中锥度角处次道薄膜残留的风险。
搜索关键词: 一种 玻璃 基底 制作方法
【主权项】:
一种光罩,所述光罩包括透光区和阻光区,其特征在于,所述光罩还包括部分透光区;所述部分透光区位于所述阻光区和透光区之间,以允许光线部分透过;所述部分透光区包括若干相同的遮光膜,相邻遮光膜之间形成透光的缝隙,所述部分透光区的透过率沿透光区向阻光区方向逐渐减小。
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