[发明专利]一种光罩及玻璃基底的制作方法在审
申请号: | 201710320815.1 | 申请日: | 2017-05-09 |
公开(公告)号: | CN106933023A | 公开(公告)日: | 2017-07-07 |
发明(设计)人: | 柳铭岗 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38;G02F1/13 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 | 代理人: | 吴大建,何娇 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提出了一种光罩,该光罩包括透光区和阻光区,该光罩还包括部分透光区;所述部分透光区位于所述阻光区和透光区之间,以允许光线部分透过。所述部分透光区包括若干相同的遮光膜,相邻遮光膜之间形成透光的缝隙,所述部分透光区的透过率沿透光区向阻光区方向逐渐减小。本发明的有益效果通过设置透光缝隙宽度沿透光区向阻光区方向呈现函数型规律变化的部分透光区,控制对应部分透光区位置的光阻的曝光程度,使得蚀刻剥膜后薄膜的边缘形成平缓的、弧面的或者其他形式的过渡面,保证交迭其上的次道薄膜爬坡时不易断裂,同时降低该次道薄膜在其后制程处理中锥度角处次道薄膜残留的风险。 | ||
搜索关键词: | 一种 玻璃 基底 制作方法 | ||
【主权项】:
一种光罩,所述光罩包括透光区和阻光区,其特征在于,所述光罩还包括部分透光区;所述部分透光区位于所述阻光区和透光区之间,以允许光线部分透过;所述部分透光区包括若干相同的遮光膜,相邻遮光膜之间形成透光的缝隙,所述部分透光区的透过率沿透光区向阻光区方向逐渐减小。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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