[发明专利]一种薄膜沉积设备和薄膜沉积方法在审
申请号: | 201710337765.8 | 申请日: | 2017-05-15 |
公开(公告)号: | CN107164725A | 公开(公告)日: | 2017-09-15 |
发明(设计)人: | 孙泉钦;杨晓东;肖昂;李国伟;吴虹见;张杨扬 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/54;C23C16/04;C23C16/52 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 黄灿,胡影 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种薄膜沉积设备和薄膜沉积方法,该薄膜沉积设备包括一薄膜沉积腔室;基板承载部件,设置于所述薄膜沉积腔室内,用于承载待进行薄膜沉积的基板;掩膜版固定部件,用于固定一掩膜版,所述掩膜版包括遮挡区和开口区,所述开口区用于允许待沉积的薄膜材料通过;位置调整部件,用于根据待沉积的薄膜的尺寸,调整所述掩膜版与所述基板之间的间距,以在所述基板上沉积不同尺寸的薄膜,所述不同尺寸包括薄膜在所述基板上的正投影的面积不同。本发明中,采用一薄膜沉积设备和一掩膜版可沉积不同尺寸的薄膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 薄膜 沉积 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种薄膜沉积设备,其特征在于,包括:一薄膜沉积腔室;基板承载部件,设置于所述薄膜沉积腔室内,用于承载待进行薄膜沉积的基板;掩膜版固定部件,用于固定一掩膜版,所述掩膜版包括遮挡区和开口区,所述开口区用于允许待沉积的薄膜材料通过;位置调整部件,用于调整所述掩膜版与所述基板之间的间距,以在所述基板上沉积不同尺寸的薄膜,所述不同尺寸包括薄膜在所述基板上的正投影的面积不同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710337765.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类