[发明专利]一种薄膜沉积设备和薄膜沉积方法在审

专利信息
申请号: 201710337765.8 申请日: 2017-05-15
公开(公告)号: CN107164725A 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 孙泉钦;杨晓东;肖昂;李国伟;吴虹见;张杨扬 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/54;C23C16/04;C23C16/52
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 黄灿,胡影
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种薄膜沉积设备和薄膜沉积方法,该薄膜沉积设备包括一薄膜沉积腔室;基板承载部件,设置于所述薄膜沉积腔室内,用于承载待进行薄膜沉积的基板;掩膜版固定部件,用于固定一掩膜版,所述掩膜版包括遮挡区和开口区,所述开口区用于允许待沉积的薄膜材料通过;位置调整部件,用于根据待沉积的薄膜的尺寸,调整所述掩膜版与所述基板之间的间距,以在所述基板上沉积不同尺寸的薄膜,所述不同尺寸包括薄膜在所述基板上的正投影的面积不同。本发明中,采用一薄膜沉积设备和一掩膜版可沉积不同尺寸的薄膜。
搜索关键词: 一种 薄膜 沉积 设备 方法
【主权项】:
一种薄膜沉积设备,其特征在于,包括:一薄膜沉积腔室;基板承载部件,设置于所述薄膜沉积腔室内,用于承载待进行薄膜沉积的基板;掩膜版固定部件,用于固定一掩膜版,所述掩膜版包括遮挡区和开口区,所述开口区用于允许待沉积的薄膜材料通过;位置调整部件,用于调整所述掩膜版与所述基板之间的间距,以在所述基板上沉积不同尺寸的薄膜,所述不同尺寸包括薄膜在所述基板上的正投影的面积不同。
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