[发明专利]形成布局图案的方法有效

专利信息
申请号: 201710363149.X 申请日: 2017-05-22
公开(公告)号: CN108957943B 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 王嫈乔;童宇诚;冯立伟;何建廷 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司;福建省晋华集成电路有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种形成布局图案的方法。首先提供一阵列图案,包含多个特征图形沿着一第一方向排列成多列,该多列特征图形在一第二方向上平行并交错。接着在各列的相邻特征图形之间插入一辅助图形。取得第n列和第n‑1列该特征图形的一最短距离d1以及第n+1列和第n‑1列该特征图形的一最短距离d2,并且根据最短距离d1和最短距离d2的差异调整插入在第n列的辅助图形。后续再将包含该辅助图形的该阵列图案输出至一光掩模。
搜索关键词: 形成 布局 图案 方法
【主权项】:
1.一种形成布局图案的方法,包含:提供一阵列图案,包含多个特征图形,等距地沿着一第一方向排列成多列,其中第n‑1列、第n列以及第n+1列该特征图形在一第二方向上交错;在各列该特征图形之间插入一辅助图形;取得第n列和第n‑1列该特征图形的一最短距离d1和第n+1列和第n‑1列该特征图形的一最短距离d2;根据该最短距离d1和该最短距离d2的差异,调整插入在第n列的该辅助图形;以及将包含该辅助图形的该阵列图案输出至一光掩模。
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