[发明专利]曝光装置有效
| 申请号： | 201710395242.9 | 申请日： | 2017-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN107450276B | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 桥本典夫 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H05K3/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供曝光装置，该曝光装置对长条基板高精度地测量基板的进给量，并且在确保了基板的平面性的状态下在基板的两面上描绘图案。曝光装置具有：第1曝光单元，其包含光调制元件阵列；第1基板保持单元，其将长条基板的长度方向的一部分保持为平面状；第1相对移动单元，其使第1曝光单元与第1基板保持单元在长条基板的长度方向上相对移动；折返单元，其使长条基板的输送路径折返；第2曝光单元，其包含光调制元件阵列；第2基板保持单元，其将长条基板的长度方向的一部分保持为平面状；以及第2相对移动单元，其使第2曝光单元与第2基板保持单元在长条基板的长度方向上相对移动。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其特征在于，该曝光装置具有：第1曝光部，其具有光调制元件阵列，向长条基板的第1面照射被所述光调制元件阵列调制后的图案光；第1曝光台，其将所述长条基板的长度方向的一部分保持为平面状；第1相对移动单元，其使所述第1曝光部与所述第1曝光台在所述长条基板的长度方向上相对移动；折返单元，其使所述长条基板的输送路径折返；第2曝光部，其具有光调制元件阵列，向所述长条基板的第2面照射被所述光调制元件阵列调制后的图案光；第2曝光台，其将所述长条基板的长度方向的一部分保持为平面状；以及第2相对移动单元，其使所述第2曝光部与第2曝光台在所述长条基板的长度方向上相对移动。
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